溶解涂層的厚度截面分析金相顯微鏡，計量光學儀器
信息分類：生命科學資訊 作者:YIYI發(fā)布
在較緩慢的掩模對準與曝光操作之前涂好膠的硅片可短期
貯存。在曝光操作中，將每一片硅片置于合適的掩模下，精確
地套準圖形廣使硅片與掩模相接觸并在象汞弧燈那樣的強紫外
光源下曝光適當時間�？墒褂谩敖佑|式”，即“接近式”光刻或
將掩模圖形投影予硅片上。
硅片曝光后進行顯影。其操作步驟是溶解涂層的所有未曝
光部分并留下粘附的曝光部分。應進行顯影檢查以保證所有未
曝光材料都已除盡，而且顯影溶劑不能侵蝕聚合材料以免圖形
邊緣變形。
顯影后必須烘干和堅固留在涂層上的圖形，以便在未發(fā)生
鉆蝕或脫膠現(xiàn)象的情況下進行下一步的腐蝕操作。膠膜應有極
佳的粘附性，以盡可能減少腐蝕過程中可能產(chǎn)生的“側蝕”現(xiàn)
象．
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