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光刻技術(shù),精密蝕刻的“印刷電路”和化學(xué)蝕刻

信息分類：生命科學(xué)資訊　　　　作者:YIYI發(fā)布　

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光刻技術(shù),精密蝕刻的“印刷電路”和化學(xué)蝕刻


光刻技術(shù)起源予商業(yè)上的照相制版術(shù)，該技術(shù)本
身則用于制備精密蝕刻的“印刷電路”和化學(xué)蝕刻中的精密的金
屬孔徑掩模。將二氧化硅薄層作為擴(kuò)散掩蔽的平面工藝問(wèn)世
后，把這一工藝用于控制擴(kuò)散區(qū)域的尺寸，從而導(dǎo)致了集成電路
技術(shù)的發(fā)展。

如果硅片貯存時(shí)間過(guò)長(zhǎng)或貯存不當(dāng)，其表面沾污或變臟時(shí)，
就進(jìn)行預(yù)清洗。這是為硅片表面涂膠作準(zhǔn)備。
    涂膠操作是將光刻膠以均勻的薄層涂覆在硅片表面的二氧
化硅上，并應(yīng)將由工藝所引起的缺陷減至最少。涂層需經(jīng)烘干
處理，以蒸發(fā)溶劑并為以后的工序堅(jiān)膜。在緊接著預(yù)清洗后的
全部操作步驟中應(yīng)使用層流凈化臺(tái)，且操作要謹(jǐn)慎，以防硅片受
塵摻和煙霧的沾污。

本文由出自上海光學(xué)儀器廠，轉(zhuǎn)載請(qǐng)注明
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