用掃描電子顯微鏡觀察時(shí),應(yīng)該特別注意的是,即使試樣被
覆得很理想,而二次電子圖象與光學(xué)顯微鏡影象對比度也是完全
不同的。例如在普通光學(xué)顯微鏡下觀察標(biāo)本表而起伏時(shí),凹部與
凸部分別相當(dāng)于亮部與暗部,然而用二次電子圖象觀察試樣起伏
時(shí),在光學(xué)顯微鏡下變暗的部位反而卻變成了最亮的部位。二次
電子圖象與光學(xué)顯微鏡影象的差別可能是對試樣形態(tài)造成錯(cuò)誤判
斷的原因。被覆膜不均勻或被覆膜過薄還會出現(xiàn)反映化石表面形
態(tài)的圖象與反映被覆不均勻、試樣本身礦物成分及原子分布不同
的復(fù)合圖象,不僅試樣形態(tài)不明顯,而且也有可能面貌全非。這
些向題,必須與光學(xué)顯微鏡觀察結(jié)果進(jìn)行比較,并就更多的試樣
進(jìn)行觀察來解決。
在觀察中絕大多數(shù)圖象故障是因被覆不當(dāng)引起的。