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鍍膜厚度測定用專業(yè)儀器廠商-光刻膠簡介

信息分類：生命科學(xué)資訊　　　　作者:YIYI發(fā)布　

光刻顯影后（5nm線寬，1微米厚的光刻膠（350nm）），

在氧化層的硅片表面鍍金30nm，鍍完后，在丙酮泡30分鐘都沒有什么效果，

去不了膠，照理說金的厚度并不至于把光刻膠包上啊，怎么就是去不了膠。

用超聲試過，膠能去除，但是同時(shí)把需要的金薄膜也去除一部分了

回答

問題是lift-off困難的問題。首先lift-off要有under-cut結(jié)構(gòu)才能很好地進(jìn)行，

如果出現(xiàn)over-cut就會(huì)影響lift-off效果。當(dāng)然如果鍍膜方法選擇得當(dāng)，比如電子束蒸鍍，

也能讓lift-off進(jìn)行順利些。解決問題的主要辦法就是獲得under-cut結(jié)構(gòu)，

比如用雙層膠工藝或用lift-off resist等。另外，我知道有很多膠都有除膠劑，

光刻膠就配有相應(yīng)的除膠劑

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