金屬溶液厚度為幾個微米的數(shù)量級的外延層測量
信息分類：生命科學資訊 作者:YIYI發(fā)布
金屬溶液厚度為幾個微米的數(shù)量級的外延層測量
闡述了一種從金屬溶液中生長薄而光亮外延層的新方
法。將較冷的襯底浸漬到較熱的溶液中去，無需調節(jié)所需要
的溫度控制，就可以得到自校準的生長。用這種瞬態(tài)法或
“快浸”法生長的外延層的水平和形貌取決于初始的熱分布
和后來的熱條件。為了進一步控制外延層厚度，在完成一個
溫度周期前，就可取出樣品。已經證實可用此法來生長薄的
砷化鎵外延層。厚度為幾個微米的數(shù)量級的外延層是在短于
一分鐘的條件下生長的。一般說來，此法還可以用來從金屬
溶液中生長其它材料。
雖然第一個液相外延系統(tǒng)是為重摻雜材料設計的，但是，所
有這些技術均能生產非常純的材料，每一個方法都達到了高度
成熟的階段。
對于生長高純外延層，采用水平和立式兩種系統(tǒng)；然而，現(xiàn)
在感到立式反應器能較好地控制溫度，因此能生長出更為均勻的
外延層。而在生長100微米厚的外延層時，均勻性特別重要。瞬
態(tài)生長程序從根本上說僅限于生產幾個微米的薄層，因而主要用
于制備重摻雜的接觸層或者具有突變界區(qū)的結。水平系統(tǒng)一般是
優(yōu)先用在生長1～10微米厚的優(yōu)質層上。
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