熔煉鑄造晶粒尺寸-鑄造合金及其熔煉實(shí)驗(yàn)
顯微鏡
添加微量鈧之鋁合金靶其在真空熔煉鑄造后其靶材晶粒尺寸均勻,
大小可控制在50μm以下,且鑄造后之顯微組織為一具微細(xì)Al3Sc析出相均勻分佈
之熱穩(wěn)定性佳與清淨(jìng)度高之等軸晶結(jié)構(gòu)。而在濺鍍薄膜之性質(zhì)研究方面,
添加鈧之Al-Sc合金系統(tǒng)薄膜其對(duì)于濺鍍凸起小丘(hillock)之抑制效果明顯優(yōu)于
商用之Al-Nd合金系統(tǒng)。另外在薄膜之電性質(zhì)研究結(jié)果上顯示添加鈧之Al-Sc合金系統(tǒng)薄膜,
其再經(jīng)退火熱處理后電阻系數(shù)皆可降低至4μΩcm以下,已符合平面顯示器中大尺寸
之電阻系數(shù)要求值(<10μΩcm)。但此合金薄膜之電阻系數(shù)值會(huì)隨Sc含量增加而上昇,
當(dāng)Sc含量添加超過(guò)1.5wt%時(shí),合金薄膜之電阻系數(shù)有明顯較大幅度增加之趨勢(shì)。
另外在
光學(xué)反射率之量測(cè)結(jié)果顯示當(dāng)Sc含量添加≦1.5wt%時(shí),
退火熱處理前后Al-Sc合金薄膜之反射率在可見光波段之范圍內(nèi)其反射率整體
平均皆可達(dá)83%以上,由此證明添加微量鈧之Al-Sc合金靶材適合應(yīng)用于鍍制
光電平面顯示器驅(qū)動(dòng)電路層材料或光電
元件用高反射率金屬膜層。