礦石內(nèi)部的晶體結(jié)構(gòu)與微觀結(jié)構(gòu)分析
光學顯微鏡
TiO2 鍍膜的晶體結(jié)構(gòu)與微觀組織分析
為不同沉積時間所得 TiO2 鍍膜之 XRD 繞射
圖形及截面形態(tài),由 XRD 繞射圖中可看出當沉積時
間為 15 min 時,由于沉積時間較短、基材溫度較低,
以致所得之晶體結(jié)構(gòu)為金紅石結(jié)構(gòu)。隨著沉積時間的
延長,銳鈦礦相的繞射鋒強度逐漸增加,當沉積時間
達 30 min 時,TiO2 鍍膜開始具有最大的銳鈦礦相(101)
繞射鋒強度,同時銳鈦礦相(004)繞射鋒亦明顯增強。
由此可以看出 TiO2 鍍膜成長機制乃優(yōu)先成長為金紅
石相,接著成長銳鈦礦相。由 TiO2 鍍膜之截面形態(tài)得
知,隨著沉積時間增加,鍍膜厚度逐漸增厚,鍍膜并
且從初期無特定形貌之外觀轉(zhuǎn)為較細致之柱狀晶,最
終轉(zhuǎn)變?yōu)檩^粗之柱狀組織。此乃鍍膜成長過程中,受
鈦離子持續(xù)轟擊而使堆積原子獲得蠕動排列的機會,
而發(fā)展成更完整的晶型。沉積時間 60 min 后所得之
TiO2 鍍膜厚度可達 5 μm,換算其成長速率約為 5
μm/h,明顯高出眾多的 PVD 制程