納米繞射及散射線寬量測技術(shù)
以 AFM 量測 50 nm 線寬線距技術(shù),須配合使用超細(xì)微探針,探針尖端尺寸可降低
到 2~10 nm 等級(jí),減少對(duì)量測待測件表面尺寸的影響。
因探針尺寸還是與待測件尺寸相近,以傳統(tǒng)掃描方式,會(huì)受限于探針給幾何表面形狀,會(huì)有死角而無法量測問題,
當(dāng) AFM 探針由左往右掃描時(shí),工件右側(cè)輪廓侷限于探針幾何形狀問題,無法
量測到。NIST[1-5]作法是使用傾斜式單向掃描,由作第一次左往右掃描后,
將工件旋轉(zhuǎn) 180 度,同樣再掃描一次后,以縫補(bǔ)技術(shù)讓二次掃描結(jié)果組合,以得到待測
件真實(shí)輪廓。此方法會(huì)碰到問題為納米工件非常細(xì)微,經(jīng)旋轉(zhuǎn) 180 度后,很難再找到同
樣位置進(jìn)行量測,會(huì)造成縫補(bǔ)技術(shù)組合誤差。
另一量測程序,將探針與待測面傾斜,先將探針左傾斜時(shí),由左往右掃描時(shí),工件左側(cè)輪廓不會(huì)侷限于探針幾合形
狀問題,直接在再傾斜探針為右傾斜后,并進(jìn)行掃描,同樣再以縫補(bǔ)技術(shù)組合,
因傾斜調(diào)整座在傾斜轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí),工件仍會(huì)有空間位移問題,由調(diào)整座幾何形狀關(guān)系與傾斜角度,
可推算出偏移量,再由水平移動(dòng)平臺(tái)補(bǔ)償偏移后,仍可找到待測件,所以二次量測都能
在同一位置附近,才能以縫補(bǔ)技術(shù)補(bǔ)償誤差