光學(xué)量測技術(shù)保留了光學(xué)量測技術(shù)中非接觸、快速顯像等特性，又提供了相當(dāng)高的空間解析率，

在學(xué)術(shù)界與產(chǎn)業(yè)界都有很好的應(yīng)用價值。再加上它的架設(shè)與傳統(tǒng)光學(xué)顯微鏡完全相容，對不熟悉光學(xué)系統(tǒng)的人士而言，操作與維護也不困難

在納米光學(xué)中，一個很重要且基本的q為如何去觀察納米區(qū)域的光學(xué)特性，
我們知道光學(xué)顯微技術(shù)受限于繞射限制，根據(jù) Rayleigh Criterion，它的極限為 0.61λ/N.a. 其中 N.a.為數(shù)值口徑，λ為波長，在空氣中我們所能看到的極限約為半個波長，

利用納米口徑產(chǎn)生僅存在于近場的光學(xué)衰減波(evanescent wave有別于以透鏡為主的遠場光學(xué)，

利用納米口徑產(chǎn)生僅存在于近場的光學(xué)衰減波(evanescent wave)，以其所特有的

高橫向波向量對納米結(jié)構(gòu)進行掃瞄，達到突破繞射限制的光學(xué)解析度。此類近場光學(xué)顯微術(shù)的核心為一能產(chǎn)生奈

米光點的探針，我們發(fā)展一種終端蝕刻技術(shù)可將一般光纖蝕刻成表面光滑具有數(shù)十納米口徑的探針。

目前我們結(jié)合此光纖探針與原子力顯微技術(shù)，研究光在光子晶體結(jié)構(gòu)上的傳播現(xiàn)象與應(yīng)用