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電弧離子鍍?cè)砻娲植诙葴y(cè)定光學(xué)儀器

信息分類：生命科學(xué)資訊　　　　作者:YIYI發(fā)布　

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電弧離子鍍元件表面粗糙度測(cè)定光學(xué)儀器



電弧離子鍍應(yīng)用于傳動(dòng)元件之耐磨性研究
其中發(fā)生反應(yīng)的可能控制機(jī)構(gòu)主要分為：
1. 熱力學(xué)控制(Thermodynamic control)機(jī)構(gòu)：
當(dāng)沉積速率等于反應(yīng)氣體輸入質(zhì)量速率，發(fā)生于非常低的平均
流速，或高沉積溫度的情況。
2. 表面動(dòng)力控制(Surface kinetic control)機(jī)構(gòu)：
當(dāng)沉積速率比反應(yīng)氣體輸入質(zhì)量速率及反應(yīng)氣體通過邊界層的
質(zhì)傳速率慢時(shí)發(fā)生。
3. 質(zhì)傳控制(Mass transfer control)機(jī)構(gòu)：
當(dāng)沉積速率比反應(yīng)氣體通過邊界層的質(zhì)傳速率快時(shí)發(fā)生，通常
是發(fā)生于高溫和高壓的情況下。
4. 孕核控制(Nucleation control)機(jī)構(gòu)：
在反應(yīng)氣體的飽和濃度相當(dāng)?shù)蜁r(shí)，沉積速率由此機(jī)構(gòu)所控制。
由于極低的平均流速和極低的反應(yīng)氣體飽和濃度皆不易達(dá)到，所以
質(zhì)傳控制和表面動(dòng)力控制是主要的成長(zhǎng)控制機(jī)構(gòu)。在低溫時(shí)，反應(yīng)活化
能較高，成長(zhǎng)速率對(duì)溫度敏感性較大，主要是由表面動(dòng)力機(jī)構(gòu)控制。而
高溫時(shí)，表面反應(yīng)速率太快，以致氣體反應(yīng)來(lái)不及補(bǔ)充至試樣表面，此
時(shí)則以質(zhì)傳控制機(jī)構(gòu)為主
本文由出自上海光學(xué)儀器廠，轉(zhuǎn)載請(qǐng)注明
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