但利用氫氧化鈉與氫氧化鉀反應(yīng),目前仍有兩主要問(wèn)題有待克服,
一是利用感應(yīng)耦合電漿原子發(fā)射光譜儀(ICP-OES)檢測(cè)后發(fā)現(xiàn)兩者成長(zhǎng)的石英分別有鈉離子(Na+)
與鉀離子(K+)含量偏高的情形,顯然是再結(jié)晶過(guò)程中鈉離子與鉀離子殘留在樣品中;
另一問(wèn)題是晶粒較小尚無(wú)達(dá)到工業(yè)需求,這可能是由于在再結(jié)晶的過(guò)程中成核快
速且伴隨著石英的成長(zhǎng)緩慢所導(dǎo)致