灰階光罩的種類
灰階光罩依制作的方法可分為下列四種:
A.半色調(diào)網(wǎng)點(diǎn)法(Halftoning)
如同一般的光罩制作流程,在鍍鉻膜的石英機(jī)版上制作比最小曝
光線寬還小的通光網(wǎng)點(diǎn),以網(wǎng)點(diǎn)分布的密度作為調(diào)變灰階的方法。
B.薄膜涂布法(Thin Layer Coating)
此法制作光罩的主要有兩個(gè)步驟:
1.以熱蒸鍍的方式將鎳(75%)、鉻(16%)、鐵(5%)合金鍍于
石英基板上約數(shù)個(gè)納米的厚度。
2.經(jīng)由曝光、顯影后利用撥脫技術(shù)(Lift off)完成光罩表面之灰階
結(jié)構(gòu)。
C.運(yùn)用對(duì)高能束敏感玻片(High Energy Beam Sensitive Glass,HEBS Glass)
HEBS 玻片是美國(guó) Canyon Materials 公司于公元 1983 年所發(fā)展出
來(lái)的。HEBS 玻片是以包含堿金屬離子(AlkaliIons)的鋅硼硅玻璃
(Zinc-Borosilicate Glass) 為基版材料,在此玻璃基版進(jìn)行離子交換過(guò)
程。在攝氏 320 度的高溫之中,硝酸銀溶液中的銀離子與玻璃基版上
的鈉離子交換,在玻璃表層形成 3μm 厚的鹵化銀分子(Silver-Halide
Complex)。離子交換過(guò)程結(jié)束后,還需要摻雜抗光材料(Photo-Inhibitor)
如二氧化鍗(TiO2)、五氧化二鈮(Nb2O5)、三氧化二釔(Y2O3)等,此抗
光材料系增加玻璃上鹵化銀對(duì)光的能隙,限制其只能與高能光束產(chǎn)生
作用,如電子束、激光束等