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光學(xué)元件常識(shí)，購(gòu)置高分辨率的熒光顯微鏡測(cè)定細(xì)胞

信息分類：生命科學(xué)資訊　　　　作者:YIYI發(fā)布　

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光學(xué)元件常識(shí)，購(gòu)置高分辨率的熒光顯微鏡測(cè)定細(xì)胞

光學(xué)元件依照其原理來(lái)區(qū)分，大致上可以分成折射式光學(xué)元件
(Refractive Optical Elements，ROEs)與繞射式光學(xué)元件(Diffractive
Optical Elements，DOEs)兩種。
繞射式光學(xué)元件，具備著多樣光學(xué)功能的特點(diǎn)，其體積、重量皆
可比折射式光學(xué)元件來(lái)的小，尤其在微光學(xué)系統(tǒng)中的應(yīng)用，繞射式光
學(xué)元件極具發(fā)展的前景。至今，繞射式光學(xué)元件已經(jīng)被廣泛的運(yùn)用于
光電產(chǎn)品之中，如光學(xué)讀取頭、條碼讀取機(jī)、激光印表機(jī)、激光準(zhǔn)直
透鏡以及微小微透鏡陣列支聚光、成像與掃瞄裝置，甚至于下一代高
速平行計(jì)算系統(tǒng)中成為重要的光學(xué)連結(jié)元件。

灰階光罩的優(yōu)點(diǎn)
制作繞射式光學(xué)元件的方法有很多種。由于現(xiàn)今半導(dǎo)體制成技術(shù)
的成熟，故用半導(dǎo)體制程中的光罩微影技術(shù)，可達(dá)成大量制作的目
的，本論文所提之繞射式光學(xué)元件，亦是以光罩微影技術(shù)制作。然而
為了要提升繞射式光學(xué)元件的效率，會(huì)將元件制作成多階的形式。如

在傳統(tǒng)上，多位階的繞射式光學(xué)元件，會(huì)透過(guò)二元多光
罩與蝕刻制程(Binary Multimask-and-Etch Fabrication Process)來(lái)制作
欲制作 2N
之繞射式光學(xué)元件，需要 N 個(gè)不同圖案的光罩，N 次
曝光以及 N 次蝕刻的程序，然而每一次曝光，光罩還需要再定位對(duì)
本文由出自上海光學(xué)儀器廠，轉(zhuǎn)載請(qǐng)注明
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