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特別適用于對可能包含多晶區(qū)的晶片分析電子顯微鏡

信息分類：生命科學(xué)資訊　　　　作者:YIYI發(fā)布　

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特別適用于對可能包含多晶區(qū)的晶片分析電子顯微鏡


較高能量的電子束可用以進(jìn)行反射式電子衍射(RHEED)
，這時采用小的掠射角，并利用向前散射的電子來造成
衍射花樣，而這種向前散射的電子的產(chǎn)生率不會由于入射電子能
量的增加而減�。绻嚇颖砻嫦竽菢哟植�，則光：豪
可以貫穿凸出部，這時情況就基本上和透射電子衍射相同了．然
而，如果表面在原子尺度上是十分光滑的，那末當(dāng)電子束以小角度
入射時，它的貫穿深度也是十分小的，這時反射式高能電子衍射將
和低能電子衍射一樣，基本上只與試樣表面的幾個原子層有關(guān)．需
要記住的是：雖然電子束的直徑很小，但因掠射角也很小，因此試
樣表面受電子柬照射的區(qū)域?qū)⑹且欢ㄩL度的狹帶，這個區(qū)域都產(chǎn)
生衍射，這樣，要進(jìn)行局部區(qū)域的測量就變得困難了．正因如此，
在研究表面時，反射式高能電子衍射的應(yīng)用就不象低能電子衍射
那樣廣泛．但它也有一個優(yōu)點(diǎn)，即它更容易觀察到小的晶體結(jié)均
不同的局部區(qū)域

反射幾何也可應(yīng)用于形貌照相，如果被檢驗的是表面或似外
延層那樣的薄層，則最為適宜．已經(jīng)采用了類似于透射形貌照相
中所用的某些改進(jìn)辦法，例如，雙晶單色器以及使用選擇擋板來限
定觀察截面等．白色輻射和大截面的X射線柬也能用來拍
攝形貌照相圖．用這種方法拍的斑點(diǎn)也是大的，并將顯示出結(jié)
晶學(xué)細(xì)節(jié)．這種方法特別適宜于對可能包含多晶區(qū)的晶片快速地
作形貌圖

本文由出自上海光學(xué)儀器廠，轉(zhuǎn)載請注明
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