設計原理是由變化產生的襯度而成像-相襯顯微鏡
信息分類：生命科學資訊 作者:YIYI發(fā)布
設計原理是由變化產生的襯度而成像-相襯顯微鏡
光電發(fā)射電子顯微鏡記錄的是樣品吸收電離輻射而發(fā)射的電子.電子被樣品
與物透鏡(也稱陰極透鏡)的外電極之間的強電場加速，物鏡產生的放大圖像再被
一系列磁或靜電電子透鏡放大上百或上千倍，最后用二維電子探測器記錄電子的發(fā)
射.
當X射線被物質吸收的時候，電子從芯能級被激發(fā)到未占據(jù)的電子態(tài)，留下空
的芯能級態(tài).芯空穴的衰退過程導致二次電子的產生.電子的俄歇和非彈性散射過
程產生低能電子流，其中有些電子穿越樣品表面逃逸到真空，被PEEM的電子光學
系統(tǒng)收集.由于輻射能量以及樣品功函數(shù)的不同，一個寬的電子譜隨之產生.這種
寬的電子分布是PEEAI圖像失真的主要來源，這是因為電子透鏡不是單色的而是
多色的(chromatic).盡管X射線的穿透能力比較強，由于發(fā)射的電子來源于非常
淺的表面，PEEM是表面敏感的技術.通常大部分信號產生于表層2-5nm.
光電發(fā)射電子顯微鏡是通過表面形貌、元素、化學成分以及磁性等因素的變化
產生的襯度而成像的，襯度的起源分述如下.
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