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對(duì)熒光敏感的CCD照相裝置與分析-熒光顯微鏡廠商

信息分類：生命科學(xué)資訊　　　　作者:YIYI發(fā)布　

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對(duì)熒光頻域敏感的CCD照相裝置與分析-熒光顯微鏡廠商

準(zhǔn)分子激光系統(tǒng)架構(gòu)

準(zhǔn)分子激光加工系統(tǒng) Series 7000 型，其波長(zhǎng)為 248 nm 的 KrF 深紫
外線準(zhǔn)分子激光（Lambda Physic LPX210）。最大激光操作頻率為 100
Hz， 最大輸出能量 700 mJ，最大輸出功率 56 W。


并具有能量衰減器（attenuator）可調(diào)節(jié)穿透能量由 10% 到 95%。

輸出激光光束尺寸為 12mm X 12mm，輸出激光光束均勻性為±5%。并可使用 NA 值為
0.2 的十倍鏡將激光光束尺寸縮小為 1.2mm X 1.2mm，此時(shí)最大能量
密度為 10 J/cm2。

（1）激光光源：脈衝式 KrF 準(zhǔn)分子激光，波長(zhǎng)為 248nm，還有一組
光路校準(zhǔn)用 He-Ne 激光。

（2）巨觀與微觀光路傳輸系統(tǒng)：內(nèi)有光能量調(diào)變器、光束能量均勻
化微透鏡陣列、投影光學(xué)透鏡組。

（3）工件加工監(jiān)視系統(tǒng)：采用黑白 CCD 照相機(jī)與顯示器監(jiān)控處理工
件及準(zhǔn)直時(shí)的狀況，并具備影像處理軟體作加工尺寸的量測(cè)。

（4）光束波形診斷與激光能量監(jiān)控裝置：對(duì)紫外頻域敏感的 CCD 照
相裝置與分析軟體，可線上調(diào)整及監(jiān)視工件上的光束能量分布
與能量密度分析。
（5）工件與光罩定位平臺(tái)、系統(tǒng)整合控制平臺(tái)。
本文由出自上海光學(xué)儀器廠，轉(zhuǎn)載請(qǐng)注明
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