反映整個(gè)三維粗糙度表面有全貌。
由于機(jī)械輪廓儀方法的上述不足。人們對(duì)開拓光學(xué)技術(shù)來
測(cè)量表面粗
糙度已進(jìn)行了實(shí)質(zhì)性的探討,
從各種不同的觀點(diǎn)對(duì)干涉測(cè)量及散射法廣
泛地進(jìn)行了研究。后者是基于貝克曼的理論以測(cè)量條紋對(duì)比度為基礎(chǔ)的
干涉測(cè)量法,
要求表面粗糙度的高度小于一個(gè)波長,因此在應(yīng)用上受到
限制。另一方面,對(duì)于光散射法,除了上面的限制外,
一般說來還要求
表面高度分布呈高斯型,表面高度自相關(guān)函數(shù)呈高斯型,因此,光散射
法在應(yīng)用上受到相當(dāng)大的限制。