掃瞄式電子顯微鏡
掃瞄穿隧顯微鏡表面分析系統(tǒng) (f)磁力顯微鏡
電子學(xué)與生物磁學(xué)實(shí)驗(yàn)室
(a)樣品制作:雷射鍍膜系統(tǒng)、磁控濺鍍系統(tǒng)、蒸鍍系統(tǒng)、Ar+離子蝕刻系統(tǒng)、等
(b) 精密測(cè)量:超導(dǎo)量子干涉磁量?jī)x,多功能物性測(cè)量系統(tǒng)。
(c) 雜訊測(cè)量裝置等。
(d) 掃描穿隧電子顯微鏡、掃描原子力顯微鏡及掃描磁力顯微鏡等。
(e) 腦磁儀。
(f) 磁振造影裝置。
(g) 納米磁性標(biāo)靶抗體、蛋白質(zhì)檢測(cè)。
(a)樣本制作:光化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)和電漿化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)、有機(jī)金屬化學(xué)之相沉積系統(tǒng)
(b)實(shí)驗(yàn)設(shè)備:光激發(fā)螢光頻譜系統(tǒng)、紅外線/遠(yuǎn)紅外線傅立葉轉(zhuǎn)換光譜儀、深層能階瞬時(shí)能譜儀、氬離子雷射、氦-鎘雷射
(c)超導(dǎo)磁鐵、C-V及I-V 特性分析系統(tǒng)、0.3 K He3 低溫系統(tǒng)、霍爾效應(yīng)系統(tǒng)、封閉循環(huán)低溫系統(tǒng)
(d)低溫掃瞄穿隧顯微鏡
(e)遠(yuǎn)紅外雷射及 7 T 磁鐵
設(shè)備
1. LCD制程設(shè)備及物性量測(cè)項(xiàng)目。
2. 液晶超薄模光熱訊號(hào)量測(cè)(解析度為10 nJoule)。
3. 液晶薄膜光反射量測(cè)系統(tǒng)(包含線性與圓偏極光量測(cè))— 解析度達(dá)105分之1。
4. 改良型穿透式電子顯微鏡(TEM)— 液晶材料之結(jié)構(gòu)測(cè)定。
6. 液晶薄膜表面張力測(cè)定儀。